最近,由于持續(xù)發(fā)酵的“華為”事件,大家對(duì)國(guó)內(nèi)芯片產(chǎn)業(yè)的關(guān)注達(dá)到前所未有的高度。那么,什么是芯片?芯片的制造過(guò)程到底有多復(fù)雜呢?
芯片,半導(dǎo)體元件產(chǎn)品的統(tǒng)稱,即集成電路(英語(yǔ):integrated circuit,縮寫作 IC;或稱微電路(microcircuit)、微芯片(microchip)、晶片/芯片(chip)在電子學(xué)中是一種把電路(主要包括半導(dǎo)體設(shè)備,也包括被動(dòng)組件等)小型化的方式,并時(shí)常制造在半導(dǎo)體晶圓表面上。
電子芯片應(yīng)用廣泛,我們?nèi)粘I钪锌吹降摹⒂眠^(guò)的手機(jī)、電腦、空調(diào)、平板等等電子設(shè)備想要運(yùn)行,都離不開(kāi)這小小的“動(dòng)力源”。
雖然芯片體積小,但由于上面需要無(wú)數(shù)的導(dǎo)線及成千上萬(wàn)根晶體管排布,所以其制造難度大,技術(shù)需求高,目前中國(guó)芯片的自給自足率很低,所以能掌握先進(jìn)芯片技術(shù)的美國(guó),才能如此強(qiáng)硬。
簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)半導(dǎo)體芯片的研發(fā)包括:硅晶圓-光刻-摻雜-封裝測(cè)試等環(huán)節(jié),隨著電子芯片尺寸的不斷減小和內(nèi)部結(jié)構(gòu)復(fù)雜程度的不斷提高,對(duì)于芯片的檢驗(yàn)難度也越來(lái)越大,想要獲得完整的具有高清晰度的芯片內(nèi)部結(jié)構(gòu)圖像更是難上加難。
當(dāng)前芯片檢驗(yàn)的常用方法通常是將芯片層層剝開(kāi),再用電子顯微鏡對(duì)每一層表面進(jìn)行拍攝,這樣檢測(cè)方式對(duì)芯片具有極大破壞性,此時(shí),X射線無(wú)損檢測(cè)技術(shù)也許可助一臂之力。
電子芯片X射線檢測(cè)設(shè)備主要是利用X射線照射芯片內(nèi)部,由于X射線的穿透力很強(qiáng),能夠穿透芯片后成像,其內(nèi)部結(jié)構(gòu)斷裂情況可以一覽無(wú)余,使用X射線對(duì)芯片檢測(cè)的最主要特點(diǎn)就是對(duì)芯片本身沒(méi)有損傷,因此這種檢測(cè)方式也叫無(wú)損探傷。
日聯(lián)科技致力于精密X射線技術(shù)研究和X射線智能檢測(cè)裝備研發(fā)、制造,公司設(shè)備廣泛應(yīng)用于線路板、IC、半導(dǎo)體、封裝元器件、集成電路、太陽(yáng)能光伏、LED等電子制造高科技行業(yè)。
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